装置 | 仕様 |
---|---|
流通系反応装置 | 常圧、高圧各種 |
ガス循環系反応装置 | 減圧、高圧 |
均一系反応装置 | 常圧、高圧各種 |
特殊反応装置 | マイクロ波、光触媒、超臨界 |
吸着測定装置 | 各種 |
COパルス吸着、 O2、N2Oパルス反応装置 |
各種 |
合成設備 | 無機化合物、有機・高分子化合物 |
成型器 | 押出成型、打錠成型各種 |
焼成炉 | マッフル炉、管状炉各種 |
ガスクロマトグラフ | FID、TCD、FPD、FTD、MS、HPLC各種 |
化学発光式NOx分析計 | 排ガス分析各種 |
FTIR | 透過式、マルチガス連続測定(CO、CO2、NH4、NO、NO2、N2O、CH4、etc(ppm)) |
表面積・細孔分布測定装置 | BET法 |
電気化学計測器 | 各種 |
質量分析器 | 反応解析 |
TG-DTA | 材料解析 |
XRD | 粉末X線回析 |
社外使用設備 | ICP、EPMA、XPSなど |